H=A+B/U+CU,H为塔板高度,A为涡流扩散项,与填充物的平均颗粒直径和填充的不均匀性有关,B为分子扩散项,与组分在柱内的保留时间有关,还与组分在载气流中的分子扩散系数有关,C为传质阻力项与包括气相传质阻力项和液相传质阻力项,与填充物粒度和载气分子量有关。
关于速率理论的范迪姆特方程式H=A+ B/u+Cu,其中A、B/u、Cu依次称 为A.涡流扩散项、传质阻力项、分子扩散项B.涡流扩散项、分子扩散项、传质阻力项C.分子扩散
范迪姆固定相速率流动相组分方程式 速率理论在实际中得到的色谱峰往往是展宽的图形,这是塔板理论无法解释的。为此,YanDeemter等人于1956年提出了速率理论,讨论了色谱分配中组分在两相中的扩散和传质的动力学因素。通常采用标准偏差的平方σ2来作为色谱峰展宽的指标,它受四种动力学过程的控制:涡流扩散(σe2)、纵向分子扩...
速率理论 在实际中得到的色谱峰往往是展宽的图形,这是塔板理论无法解释的。为此,Yan Deemter 等 人于 1956 年提出了速率理论,讨论了色谱分配中组分在两相中的扩散和传质的动力学因素。 通常采用标准偏差的平方 σ2 来作为色谱峰展宽的指标,它受四种动力学过程的控制:涡流扩散 (σe2)、纵向分子扩散(σl2)、流动...
2012-05-24上传 速率理论---范迪姆特方程式及其每项对分离的影响 文档格式: .doc 文档大小: 324.0K 文档页数: 2页 顶/踩数: 0/0 收藏人数: 1 评论次数: 0 文档热度: 文档分类: 待分类 文档标签: 速率理论影响 系统标签: 范迪姆方程式速率分离理论影响 ...
前切志教关于速率理论的范迪姆特方程式H=A B/u Cu,其中前切志教 A. B/u、Cu依次称 为 B. 涡流扩散项、传质阻力项、分子扩散项 C. 涡流扩散项、分子扩
速率理论---范迪姆特方程式及其每项对分离的影响 速率理论 在实际中得到的色谱峰往往是展宽的图形, 这是塔板理论无法解释的。 为此, Yan Deemter 等人于 1956 年提出了 速率理论, 讨论了色谱分配中组分在两相中的扩散和传质的动力学因素。 通常采用标准偏差的平方 σ 2 来作为色谱峰展宽的指标, 它受四种动力学...
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简述范迪姆特方程式(H=A+B/U+CU)中各物理参数的意义 简述范迪姆特方程式(H= A +B/u +Cu)中各物理参数的意义。 温馨提示:温馨提示:请认真审题,细心答题!正确答案 点击免费查看答案 试题上传试题纠错猜您对下面的试题感兴趣:点击查看更多与本题相关的试题...
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